光學薄膜測量儀的測量原理和優(yōu)勢特征詳細說明

更新時間：2022-06-16 點擊次數(shù)：837

　　光學薄膜測量儀是一款利用光譜相干度量學工作的非接觸型膜厚測量系統(tǒng)。因其將光源、分光光度計和數(shù)據(jù)分析單元集成為一個單元，所以其配置緊湊，僅由一個主單元和光纖組成。此儀器設計緊湊，節(jié)省空間，適合安裝進用戶的系統(tǒng)中，可進行多種目標的測量。此外，該儀器為無參照物測量，因此省略了煩人的參照物測量，可長時間穩(wěn)定地進行高速、高準確度測量。

　　光學薄膜測量儀的測量原理：

　　表面輪廓：

　　垂直于樣品表面的入射光，經(jīng)過表面反射后形成的反射角，會因表面輪廓的不同而產(chǎn)生變化。正是依據(jù)測量點之間反射角的變化，通過軟件重新計算并構建了樣品表面輪廓，實現(xiàn)了全自動高精度的測量。

　　薄膜應力：

　　對于薄膜、單層或者多層鍍膜的應力，軟件主要依據(jù)理論，通過檢測鍍膜前后，基板曲率半徑的變化量計算得到。比如在半導體行業(yè)或者其他應用領域，當反射表面被加工處理后（鍍膜或者去鍍膜），操作人員能夠利用快速地對晶圓薄膜應力進行檢測。

光學薄膜測量儀

　　光學薄膜測量儀的優(yōu)勢特征：

　　1、本測試儀特贈設測試結果自動分類功能。

　　2、可定制USB通訊接口，便于其拓展為集成化測試系統(tǒng)中的測試模塊。

　　3、8檔位超寬量程。同行一般為五到六檔位。

　　4、儀器小型化、手動/自動一體化。

　　5、操作簡便、性能穩(wěn)定，所有參數(shù)設定、功能轉換全部采用數(shù)字化鍵盤輸入，簡便而且免除模擬定位器的不穩(wěn)定。

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光學薄膜測量儀的測量原理和優(yōu)勢特征詳細說明